连续式双腔溅射镀膜机
设备介绍
高精密双腔溅射镀膜机是我司开发的一款具备成膜速度快、生产效率高、高稳定性、双腔连续磁控溅射镀膜机，镀膜腔室始终保持真空，镀膜一致性高，膜层品质稳定。
设备性能
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性能 |
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真空极限 |
1.0×10-4Pa以下 |
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排气时间 |
10min(大气压~3.0×10-3Pa) |
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温度控制 |
0-300℃ |
设备参数
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技术参数 |
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真空室尺寸 |
Φ1800×2100（可定制） |
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工件盘尺寸 |
Φ1600×1400（H） |
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工件盘转速 |
50-100rpm |
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镀膜面积 |
7 平方 |
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溅射源 |
4对8个靶位 + ICP |
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离子源 |
阳极层离子源/PLASMA |
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高真空排气系统 |
6TMP+2TMP(DP) |
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低真空排气系统 |
630机械泵+1200罗茨泵 |
应用领域
主要应用领域光学薄膜，如AR膜、HR膜、UV/IR截止滤光片，装饰膜、带通滤光片等。
